Fuente de láser UV enfriada por agua que perfora obleas de silicio
En el ámbito de la fabricación de semiconductores abundan las complejidades, siendo la perforación de obleas de silicio el centro de atención. A medida que avanza la tecnología, aumenta la demanda de métodos de perforación más precisos y eficientes, lo que lleva al surgimiento de una solución transformadora: la fuente láser UV enfriada por agua. Esta tecnología de vanguardia ha revolucionado la industria al ofrecer potencia, precisión y confiabilidad incomparables, elevando el arte de la perforación de obleas de silicio a nuevas alturas.