10W-15W uv laser

Fuente de láser UV enfriada por agua que perfora obleas de silicio

En el ámbito de la fabricación de semiconductores abundan las complejidades, siendo la perforación de obleas de silicio el centro de atención. A medida que avanza la tecnología, aumenta la demanda de métodos de perforación más precisos y eficientes, lo que lleva al surgimiento de una solución transformadora: la fuente láser UV enfriada por agua. Esta tecnología de vanguardia ha revolucionado la industria al ofrecer potencia, precisión y confiabilidad incomparables, elevando el arte de la perforación de obleas de silicio a nuevas alturas.

 

  • Longitud de onda láser:

    354.7nm
  • Potencia de salida promedio:

    3W-10W @30kHz
  • Ancho de pulso:

    <12ns @ 30kHz
  • Tasa de repetición de pulso:

    10-200kHz
  • Calidad del haz (㎡):

    <1.2
  • Diámetro del haz:

    0.8±0.2mm Measured at window
  • Ángulo de divergencia total del haz:

    <2mrad
  • Circularidad del haz:

    >90%
  • Estabilidad de pulso a pulso:

    <2% RMS/@30kHz
  • Estabilidad de potencia promedio:

    <5% RMS/8hr
  • Deriva de apuntamiento de haz:

    <30μrad/℃
  • Relación de polarización:

    >100:1
  • Orientación de polarización:

    Horizontal
  • Temperatura de funcionamiento. & RH:

    10℃ to 30℃ | <80%
  • Temperatura de almacenamiento. & RH):

    -20℃ to 65℃ | <90 %
  • Requisito de electricidad:

    100-240VAC |50/60Hz | Single phase
  • El consumo de energía:

    <500W
  • Garantía:

    18months
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  • Detalle del producto
  • Video

láser ultravioleta

Fuente de láser UV enfriada por agua que perfora obleas de silicio

Potente precisión: una fuente láser UV refrigerada por agua revoluciona la perforación de obleas de silicio

En el ámbito de la fabricación de semiconductores abundan las complejidades, siendo la perforación de obleas de silicio el centro de atención. A medida que avanza la tecnología, aumenta la demanda de métodos de perforación más precisos y eficientes, lo que lleva al surgimiento de una solución transformadora: la fuente láser UV enfriada por agua. Esta tecnología de vanguardia ha revolucionado la industria al ofrecer potencia, precisión y confiabilidad incomparables, elevando el arte de la perforación de obleas de silicio a nuevas alturas.

 

Tradicionalmente, la perforación de obleas de silicio ha sido un proceso complejo y que requiere mucho tiempo, a menudo plagado de desafíos como daños térmicos, acumulación de desechos y formas irregulares de los orificios. Sin embargo, con la introducción de la fuente láser UV enfriada por agua, estos obstáculos se han superado, facilitando un enfoque innovador de perforación que garantiza resultados excepcionales en todo momento.

 

En el corazón de esta revolucionaria tecnología se encuentra el extraordinario poder de la fuente láser UV enfriada por agua . Utilizando luz ultravioleta de alta energía, esta fuente láser ofrece un haz concentrado y controlado que permite una eliminación precisa del material sin comprometer la integridad de la oblea de silicio. Al aprovechar la potencia de esta fuente de luz avanzada, los fabricantes pueden lograr orificios limpios y uniformes, incluso en los patrones más complejos, garantizando una funcionalidad y un rendimiento óptimos del producto terminado.

 

La precisión que ofrece la fuente láser UV refrigerada por agua es incomparable. Su haz estrechamente enfocado permite una precisión de perforación a nivel de micras, dejando poco margen de error. Esta mayor precisión permite a los fabricantes crear orificios de tamaño micro con el máximo control y consistencia, crucial para el avance de la microelectrónica y otras tecnologías de vanguardia. Al emplear técnicas tan exigentes, la fuente láser UV enfriada por agua permite a los fabricantes superar los límites de la innovación, satisfaciendo las demandas cada vez mayores de la era digital.

 

Además, la característica de refrigeración por agua de esta fuente láser mejora su rendimiento y confiabilidad. Al hacer circular refrigerante a través del sistema, el calor excesivo generado durante el proceso de perforación se disipa eficientemente. Este mecanismo de enfriamiento crucial mitiga el riesgo de daño térmico a la oblea de silicio, asegurando que su integridad estructural permanezca intacta. La eliminación del estrés térmico y las deformaciones asociadas garantiza un producto de calidad superior, lo que refuerza la confianza de los fabricantes en su capacidad para ofrecer excelencia en un mercado competitivo.

 

Además de su potencia y precisión, la fuente láser UV refrigerada por agua ofrece una versatilidad incomparable. Su naturaleza adaptable le permite superar los desafíos asociados con varios tipos de obleas de silicio, incluidas diferentes orientaciones y espesores de cristales. Esta flexibilidad garantiza resultados de perforación consistentes y óptimos, independientemente de los parámetros específicos del proyecto. Los fabricantes pueden explorar con confianza diversas aplicaciones en campos como la microelectrónica, la energía solar y la optoelectrónica, sabiendo que la fuente láser UV enfriada por agua se adaptará perfectamente a sus requisitos únicos.

 

La implementación de la fuente de láser UV enfriada por agua en la perforación de obleas de silicio también ha generado beneficios ambientales. Los métodos de perforación tradicionales suelen implicar el uso de grabadores químicos y otras sustancias peligrosas, que suponen un riesgo tanto para la salud humana como para el medio ambiente. Sin embargo, la fuente de láser UV enfriada por agua prescinde de la necesidad de dichos productos químicos, promoviendo un proceso de fabricación más seguro y ecológicamente responsable. Al priorizar la sostenibilidad sin comprometer el rendimiento, los fabricantes pueden alinear sus prácticas con la creciente demanda de soluciones respetuosas con el medio ambiente.

 

En conclusión, la integración de la fuente de láser UV enfriada por agua ha revolucionado el arte de perforar obleas de silicio. Su potencia, precisión, confiabilidad, versatilidad y sostenibilidad sin precedentes han elevado las capacidades de la industria a niveles sin precedentes. Los fabricantes ahora pueden lograr resultados impecables con una eficiencia notable, impulsando avances en la microelectrónica y otros sectores que dependen de la tecnología de obleas de silicio. A medida que el campo continúa evolucionando a un ritmo rápido, la fuente láser UV enfriada por agua permanece a la vanguardia, dando forma al futuro de la fabricación de semiconductores con su potente combinación de innovación y excelencia.

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